Litografi- Yeni Üç Boyutlu Baskı Tekniği Nano Ölçekli Üretimi 1000 Kat Hızlandırıyor:

1--Ultra hızlı bir lazerden çıkan ışığın zaman temelli bir yön-temle kontrol edildiği yeni bir nano ölçekli 3B baskı tekniği minik yapılann, yaygın teknik olan iki fotonlu litografiye (TPL) göre 1000 kat daha hızlı bir şekilde, üstelik çözünürlükten ödün verilmeksizin inşa edilmesini sağlıyor.

2--Yüksek çıktı kapasitesine karşın, femtosaniye projeksiyon (FP-TPL) olarak adlandınlan bu yeni paralelleştirilmiş teknik 175 nanometrelik derinlik çözünürlüğü sağlıyor. Bu da yerleşmiş yöntemlerle elde edilebilenden daha iyi. 90 derecelüc çıkıntısı olan yapıların inşasına olanak tanıması ise tekniğin bir diğer üstünlüğü.   

3--makaleyle tanıtılan bu yeni tekniğin doku mühendisliğinde kullanılan biyoiskelelerin, esnek elektronüderin, elektrokimyasal arayüzlerin, mikro-optiklerin, mekanik ve optik metamateryallerin ve başka işlevsel mikro ve nano yapılann seri üretimine imkân sağlayabileceği düşünülüyor.